化學氣相沉積設備、cvd原理、cvd薄膜在PTT/mobile01評價與討論，在ptt社群跟網路上大家這樣說
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電漿輔助化學氣相沉積系統. 產品功能. 產品特色 ．大面積均勻性．高鍍膜速率．低溫真空鍍膜．可通入多組氣體．易操作及易維護．可以客戶做修改．
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化學氣相沉積設備在電漿輔助化學氣相沉積 - 大永真空設備的討論與評價
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化學氣相沉積設備在電漿輔助化學氣相沉積系統(Plasma-Enhanced Chemical ...的討論與評價
電漿輔助化學氣相沉積系統(Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition, PECVD). 儀器設備管理人員：賴玟言 先生. (TEL：03-5712121-55606、55616).
化學氣相沉積設備在化學氣相沉積於液晶顯示器薄膜電晶體製程之均勻度改善研究的討論與評價
本論文主要探討在不同製程條件下電漿輔助化學氣相沉積(Plasma Enhance Chemical Vapor Deposition)設備沉積Amorphous Silicon (a-Si)薄膜之特性，首先選擇四個輸入 ...
化學氣相沉積設備在電漿輔助化學氣相沉積法於矽薄膜太陽能電池的應用的討論與評價
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