光刻機原理、荷蘭光刻機、光刻機原理在PTT/mobile01評價與討論，在ptt社群跟網路上大家這樣說

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光刻機的原理其實像幻燈機一樣簡單，就是把光透過帶電路圖的掩膜（Mask，後來也叫光罩）投影到塗有光敏膠的晶圓上。早期60年代的光刻掩膜版以1：1的 ...

可以分為兩種，分別是模板與圖樣大小一致的contact aligner，曝光時模板緊貼晶圓；以及利用短波長雷射和類似投影機原理的步進式曝光機（英語：stepper）或掃描式曝光 ...

從原理上看，光刻機的工作原理，就是讓光穿過光掩模，然後通過一系列透鏡將其縮小，最終落在覆蓋有光刻膠的基板上。由於光掩模，光刻膠的某些部分被光 ...

光刻機工作原理：光刻機通過一系列的光源能量、形狀控制手段，將光束透射過畫著線路圖的掩模，經物鏡補償各種光學誤差，將線路圖成比例縮小後映射到矽片上 ...

利用光刻机发出的光通过具有图形的光罩对涂有光刻胶的薄片曝光，光刻胶见光后会发生性质变化，从而使光罩上得图形复印到薄片上，从而使薄片具有电子线路图 ...

在加工晶片的過程中，光刻機通過一系列的光源能量、形狀控制手段，將光束透射過畫著線路圖的掩模，經物鏡補償各種光學誤差，將線路圖成比例縮小後映射到矽 ...

光刻的原理是在矽片表面覆蓋一層具有高度光敏感性光刻膠，再用光線（一般是紫外光、深紫外光、極紫外光）透過掩模照射在矽片表面，被光線照射到的光刻膠會 ...

生產積體電路的簡要步驟： ... 利用模版去除晶圓表面的保護膜。 ... 將晶圓浸泡在腐化劑中，失去保護膜的部分被腐蝕掉後形成電路。 ... 用純水洗淨殘留在晶圓表面的雜質。其中 ...

EUV產生工作原理：將高功率的二氧化碳鐳射打在直徑為30微米的錫液滴上，透過高功率鐳射蒸發錫滴，然後將蒸汽加熱到電子脫落的臨界溫度，留下離子，再 ...

半导体行业观察：EUV光刻机真可以称得上是芯片制造的“皇冠”。 ... 要明白这一切，就首先得从光刻机的工作原理谈起。 EUV 光刻机的内部工作原理（ ...