化學氣相沉積優點、化學氣相沉積方式、化學氣相沉積設備在PTT/mobile01評價與討論，在ptt社群跟網路上大家這樣說
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ALD技術優點. 傳統上，半導體廠是以物理氣相沉積（Physical Vapor Deposition, PVD）或化學氣相沉積（Chemical Vapor Deposition, CVD）在溝槽結構上製作電容層，但是 ...
化學氣相沉積優點在451701.pdf - 國立交通大學機構典藏的討論與評價
化學氣相沉積 反應器之數值模擬. Simulation of Chemical Vapor. Deposition (CVD) Reactors. 研究生：林育辰. 指導教授：陳慶耀博士.