ALD CVD、cvd原理、cvd種類在PTT/mobile01評價與討論，在ptt社群跟網路上大家這樣說
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ALD CVD在越薄越好，3D薄膜製程大挑戰：淺談原子層沈積技術的討論與評價
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Centura® iSprint™ ALD/CVD SSW 系統利用獨特的「選擇性」抑制機制，是業界第一個達到由下而上的CVD 鎢間隙填充、完全無縫隙或孔洞。該系統使鎢體積最佳化，製造出更 ...
ALD CVD在原子層沉積技術設備發展與相關產業應用 - 材料世界網的討論與評價
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我們的沉積材料是化學物質，可進行金屬/氧化物/氮化物的薄膜化學氣相沈積（CVD）和原子層沉積（ALD），可用於生產新一代先進邏輯和記憶體裝置。