PECVD、PECVD、LPCVD在PTT/mobile01評價與討論，在ptt社群跟網路上大家這樣說
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PECVD在PECVD_百度百科的討論與評價
PECVD ( Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition ) 是指等離子體增強化學的氣相沉積法。是生產人造鑽石的一種工藝，這種方法有很多優點，比如顏色等級高， ...
PECVD在PECVD | SPTS的討論與評價
PECVD 等離子體增強化學氣相沉積（PECVD）是一種利用等離子內的能量在晶片表面引發反應的工藝，否則該反應將需要與常規CVD相關的更高溫度。沉積過程中的高能離子轟擊還 ...
PECVD在電漿輔助化學氣相沉積系統(Plasma-Enhanced Chemical ...的討論與評價
電漿輔助化學氣相沉積系統(Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition, PECVD) · 1.廠牌型號: Samco · 2.購置年限: 1998年7月 · 3.放置地點: 固態電子系統大樓1樓116實驗室( ...
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PECVD在電漿化學氣相沉積(PECVD) | Ansforce的討論與評價
電漿化學氣相沉積(PECVD)在成長薄膜的過程中有化學反應發生，屬於「化學氣相沉積(CVD)」，由於只需要高真空，而且蒸鍍的金屬可以大量快速地在基板上沉積，成本較低適合 ...
PECVD在AKT® 55KS PECVD | Applied Materials的討論與評價
應用材料全新AKT 55KS PECVD 將領先市場的精密電漿輔助化學氣相沉積(PECVD) 技術引入大小為2200mm x 2500mm 的基板。該系統使用一種全新高品質二氧化矽(SiO2) 製程， ...
PECVD在Plasma-enhanced chemical vapor deposition - Wikipedia的討論與評價
Plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD) is a chemical vapor deposition process used to deposit thin films from a gas state (vapor) to a solid ...
PECVD在PECVD - 中文百科知識的討論與評價
PECVD ( Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition ) -- 電漿增強化學氣相沉積法。 PECVD：是藉助微波或射頻等使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成電漿， ...
PECVD在PECVD設備｜莎姆克的討論與評價
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PECVD在電漿輔助化學氣相沉積(PECVD) - 駿佳科技有限公司Junjia ...的討論與評價
電漿輔助化學氣相沉積 Model: PECVD-Clip Series. Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD). 規格: 一. 綜合說明: 腔體上蓋板上掀式設計，手動放置晶片, ...
PECVD在Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD)的討論與評價
VECTOR系列產品. Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD). Lam Research的PECVD產品能以高生產力為各種元件 ...