pecvd中文、PECVD、LPCVD在PTT/mobile01評價與討論，在ptt社群跟網路上大家這樣說
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pecvd中文在電漿化學氣相沉積(PECVD) | Ansforce的討論與評價
電漿化學氣相沉積(PECVD)在成長薄膜的過程中有化學反應發生，屬於「化學氣相沉積(CVD)」，由於只需要高真空，而且蒸鍍的金屬可以大量快速地在基板上沉積，成本較低適合 ...
pecvd中文在化學氣相沉積- 維基百科，自由的百科全書的討論與評價
電漿增強化學氣相沉積法（Plasma-Enhanced CVD，PECVD）：利用電漿增加前驅物的反應速率。PECVD技術允許在低溫的環境下成長，這是半導體製造中廣泛使用PECVD的最重要原因。
pecvd中文在PECVD_百度百科的討論與評價
PECVD ( Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition ) 是指等离子体增强化学的气相沉积法。是生产人造钻石的一种工艺，这种方法有很多优点，比如颜色等级高，成膜质量 ...
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pecvd中文在PECVD - 百科知識中文網的討論與評價
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pecvd中文在電漿輔助化學氣相沉積系統(Plasma-Enhanced Chemical ...的討論與評價
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pecvd中文在CVD鍍膜技術的討論與評價
中文 (繁體．台灣) · English (United Kingdom). 關於俊尚 ... 原子層沈積（ALD）; 射頻電漿化學沈積（PECVD）; 微波電漿化學沈積（MPCVD） ...
pecvd中文在電漿輔助化學氣相沉積 - 大永真空設備的討論與評價
電漿增強化學氣相沉積(PECVD)技術是材料表面改質和薄膜沉積的基本方法之一，利用電漿讓有機單體(monomer)在真空腔體中產生裂解與聚合反應，形成一結構緻密的保護層。
pecvd中文在带你解读PECVD - NAURA创新- 技术创新的討論與評價
PECVD ( Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition ) -- 等离子体增强化学气相沉积法。 PECVD：是借助微波或射频等使含有薄膜组成原子的气体电离，在 ...
pecvd中文在AKT® 55KS PECVD | Applied Materials的討論與評價
應用材料全新AKT 55KS PECVD 將領先市場的精密電漿輔助化學氣相沉積(PECVD) 技術引入大小為2200mm x 2500mm 的基板。該系統使用一種全新高品質二氧化矽(SiO2) 製程， ...
pecvd中文在電漿輔助化學氣相沉積 - 國家教育研究院雙語詞彙的討論與評價
出處/學術領域, 英文詞彙, 中文詞彙. 學術名詞 電機工程, plasma enhanced chemical vapor disposition{=PECVD}, 電漿輔助化學氣相沉積 ...